第273章 突如其来的质问（2 / 2）
准确来说，大家从1997年开始就被这个问题卡住了，从此，突破193nm之战，成为了光刻机行业的核心竞争点。
而1999年，是全球各家光刻机企业陆续决定突破方案的一年，从而促使这一竞争进入了关键时期。
其中包括157nmF2激光方案，电子束投射方案，离子投射方案，EUV方案和X光方案等等。
至于最终的战果，后世的人都很清楚，阿斯麦基于林本坚的思路推出了浸入式光刻机，一举干翻尼康，从此成为了光刻机市场唯一的霸主。
这里有一个很有趣的点在于，浸入式光刻机的核心理论就是在晶圆光刻胶上方加1mm厚的水，然后水可以把193nm的光波长折射成134nm。
相比于尼康的157nmF2激光方案，相比于英飞凌的nm离子投射方案，相比于朗讯实验室的电子投射方案，这是实现成本最低，实现方式最简单的方案。
可就是这样一个最低廉最简单方案，最终却成为了当下的最优方案。
这也是技术发展有意思的地方之一。
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