第740章、秦总指导路线,从来没错过！（2 / 2）

光刻机的波长越小，就代表着光源越细，光刻电路也会越细，芯片的技术制程才能推进一大步。

“目前，行业内一共有两种技术路线，尼康、佳能这些老牌公司，主张使用157纳米的氟气准分子激光作为光源，全新的EUVLLC联盟主张使用极紫外激光器技术，也就是EUV光源，直接把技术路线迭代到十纳米以下。但是……”

这两种技术路线，都有严重缺陷！

波长越短的光，越容易被吸收！157纳米的光源，会被大多数材料强烈吸收，以至于无法到达芯片上！只有二氟化钙研磨的镜头可以勉强使用，但是这种材料做光学镜头，质量太差，寿命也短。

至于EUV光源，那就不用折射原理了，直接加反射镜片，解决了透镜吸收光源的问题，但是，这种光刻机属于全新的产品，研发很难，而且，极紫外光的产生很困难，需要耗费大量的电力。

两种技术路线，都有很大的问题，接下来用什么技术路线，非常关键！

“嗯，我们开辟新的赛道。”秦川说道：“我们在ArF光刻机的基础上，镜头和光源之间加一层水，通过水的折射作用，把193纳米光源降低到134纳米。”

什么？